【期間限定!対象商品P2〜20倍】 ULVAC　単相マルチ　油回転真空ポンプ　1台 (GLD137CC)

特長:●ガスバラストバルブ、強制給油機構、油の逆流防止機構を装備しています。●ガスバラストバルブにより、吸引する気体中の水分などを除去し、ポンプ油中に溶解することを防ぎます。●Gシリーズの性能をさらに追求し、静音性、安全性、機能性を高めた上級機種です。●マルチレンジユニバーサルモータを搭載し、世界中どこの電圧でも対応できます。●CEマーキング自己宣言品、TUV、cTUVus認証取得品となります。 用途:●理化学実験用、分析機器用、レーザー応用機器。●真空排気装置、電子顕微鏡のバック。●半導体製造装置、スパッタ装置、真空蒸着装置。●真空乾燥器、凍結乾燥器。 仕様:●排気速度(L/min)50/60Hz：135/162●到達圧力(Pa)：0.67●吸気口径：KF-25●電源(V)：単相マルチ●騒音値(dB)：-●全高(mm)：249.5●全長(mm)：487.5●使用油：SMR−100●全幅(mm)：170.0●寸法(mm)：170.0×487.5×249.5 仕様2:●一台から異電圧に別作対応 注意:●高真空領域(10［［の−1乗］］Pa台)の能力がありますので、継ぎ手、容器などは高真空で十分に使用可能なものをお使いください。特長:●ガスバラストバルブ、強制給油機構、油の逆流防止機構を装備しています。●ガスバラストバルブにより、吸引する気体中の水分などを除去し、ポンプ油中に溶解することを防ぎます。●Gシリーズの性能をさらに追求し、静音性、安全性、機能性を高めた上級機種です。●マルチレンジユニバーサルモータを搭載し、世界中どこの電圧でも対応できます。●CEマーキング自己宣言品、TUV、cTUVus認証取得品となります。 用途:●理化学実験用、分析機器用、レーザー応用機器。●真空排気装置、電子顕微鏡のバック。●半導体製造装置、スパッタ装置、真空蒸着装置。●真空乾燥器、凍結乾燥器。 仕様:●排気速度(L/min)50/60Hz：135/162●到達圧力(Pa)：0.67●吸気口径：KF-25●電源(V)：単相マルチ●騒音値(dB)：-●全高(mm)：249.5●全長(mm)：487.5●使用油：SMR−100●全幅(mm)：170.0●寸法(mm)：170.0×487.5×249.5 仕様2:●一台から異電圧に別作対応 注意:●高真空領域(10［［の−1乗］］Pa台)の能力がありますので、継ぎ手、容器などは高真空で十分に使用可能なものをお使いください。